电力电子领域的许多行业领导者使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)作为激光二极管、LED和半导体制造的标准工艺。MOCVD工艺是一种公认的可控合成方法，它使用了多种MO源，如三甲基铟(TMI)和二乙基锌(DEZ)，需要一种稳健的传递方法，以确保沉积过程的重复性和高收率。MOCVD系统利用起泡器汽化，从而控制MO源浓度、生长时间和生长速率。部分MO源用载气流带出源瓶，并从起泡器流向腔室。在这个过程中捕获的MO源的浓度必须是已知的，而且最重要的是必须具有重复性，以提供最大的工艺效率。实现这一目标需要精确、快速和理想的过程变量的闭环控制，包括气体流量、温度和压力。
Advanced high-precision process control instrumentation for high yield MOCVD applications
HORIBA的MOCVD产品组合为这种沉积工艺的所有变化提供了解决方案，包括高精度热质量流控制器(MFC)、电子背压控制器和非色散红外光谱(NDIR)浓度监视器，已被证明可用于最具挑战性的MOCVD应用。HORIBA还提供了一种干涉测量终点监测技术，可应用于关键工艺环境。
光学系统由光源、气体管道和双光束探测器组成。双光束探测器的稳定性已被证明超过40年的时间。
HORIBA在计量发展和技术创新方面拥有悠久的专业历史，并以成为半导体行业受尊敬的领导者而自豪。
金属有机化学气相沉积（MOCVD）工艺广泛应用于发光二极管、光学器件和其他组建的制造。通过控制温度、压力和载气流速（鼓泡法），液体和固体化学品被输送到反应室。
Product detail IR-300UR-Z700 系列高性能自动压力调节器配备电子调节器，带有高精度压力传感器和高分辨率、快速响应的压电阀。根据接收到的外部控制信号控制压力。支持数字/模拟和 DeviceNet™ 通讯模式。
Product detail UR-Z700这是 HORIBA 最畅销的数字式质量流量控制器。它具有多量程/多气体功能，用户能够快速方便地现场更改气体类型或满量程流量。
该质量流量控制器具有高精度（+/- 1.0% 设定点）、压电阀、高速响应和全金属特性，可提高制程良率，简化零件管理。支持数字/模拟、DeviceNet™ 和 EtherCAT® 通信模式。
如您有任何疑问，请在此留下详细需求信息，我们将竭诚为您服务。
