为了确认光栅的可行性,请提供如下的光栅规格:
• 基材
• 基板尺寸
• 有用区域
• 基材形状(平面、球形、……)
• 基材 RMS 显微粗糙度 (nm)
• 基材 RMS面型误差(μrad 或 arcsec)
• 刻线密度:等线距或 VLS
如果 VLS,N(x) =N0*(1+2*b2x+3*b3x2+4*b4x3+…)
Where :
N0 (mm-1) =
b2 (mm-1) =
b3 (mm-2) =
• 刻槽形状
• 能量范围
• Cff 系数或入射角
• 镀膜
全息Lamellar光栅
HORIBA Scientific 全息Lamellar光栅具有超低的刻线粗糙度和独特的效率均匀性,使其成为同步辐射光源、自由电子激光器 (FEL)、EUV 或软 X 射线光源的理想选择。
全息和离子刻蚀工艺使我们能够定制刻槽形状和分布,使其具有:
等线距或可变线距 (VLS)
等线距或可变刻槽深度 (VGD)
如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。