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在有机合成反应中,为防止形成不需要的副产物和反应,需要对一些反应基团进行保护。光裂解法去除保护基团展现出了许多优点,例如脱保护所需的的条件相对较为温和以及与酸或碱敏感基团的正交性。光裂解法在材料科学、生物化合物的合成与释放以及合成有机化学领域均具有较为广泛的应用。
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