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光罩/掩膜颗粒去除设备
RP-1 通过空气(或 N2)和真空抽吸自动去除光罩/掩膜上的颗粒。在光刻工艺前定期去除颗粒可延长薄膜的更换周期和掩膜的清洗周期,从而降低运行成本。
如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。
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光罩/掩模颗粒检测系统
比表面积分析仪