Modes de mesure

• AFM contact dans l'air
• AFM contact en milieu liquide (en option)
• AFM contact intermittent dans l'air
• AFM contact intermittent en milieu liquide (en option)
• AFM non-contact
• Microscopie à force dynamique (DFM, FM-AFM)
• Microscopie à force de dissipation
• Top Mode
• Imagerie de phase
• Microscopie à force latérale (LFM)
• Modulation de force
• AFM conductrice (en option)
• I-Top mode (en option)
• Microscopie à force magnétique (MFM)
• Sonde de Kelvin (microscopie à potentiel de surface)
• Sonde de Kelvin à simple passage
• Microscopie capacitative (SCM)
• Microscopie à force électrique (EFM)
• MFM/EFM à simple passage
• Mesures de courbe de force
• Microscopie à force piézoélectrique (PFM)
• PFM-Top mode
• Nanolithographie
• Nanomanipulation
• STM (en option)
• Cartographie du photocourant (en option)
• Mesures de la caractéristique volt-ampère (en option)
• Microscopie à force de cisaillement avec diapason (ShFM)
• Microscopie à force normale avec diapason
   

Scanner et base SmartSPM

Plage de balayage d'échantillon : 100 µm x 100 µm x 15 µm (± 10 %)

Type de balayage par échantillon : Non-linéarité XY 0,05 % ; non-linéarité Z 0,05 %

Bruit : < 0,1 nm RMS dans la dimension XY sur une largeur de bande de 200 Hz avec les capteurs capacitatifs activés ; < 0,02 nm RMS dans la dimension XY sur une largeur de bande de 100 Hz avec les capteurs capacitatifs désactivés ; < 0,04 nm RMS dans la dimension Z sur une largeur de bande de 1 000 Hz avec le capteur capacitatif

Fréquence de résonance : XY : 7 kHz (sans charge) ; Z : 15 kHz (sans charge)

Mouvement X, Y, Z : contrôle numérique en boucle fermée pour les axes X, Y, Z et plage d'approche Z motorisée 18 mm

Taille d'échantillon : 40 x 50 mm max., épaisseur 15 mm

Positionnement des échantillons : plage de positionnement motorisé des échantillons 5 x 5 mm

Résolution de positionnement : 1 µm

Tête AFM HE001

Longueur d'onde du laser : 1300 nm

Aucune influence du laser d'enregistrement sur les échantillons biologiques

Aucune influence du laser d'enregistrement sur les mesures photovoltaïques

Bruit du système d'enregistrement : < 0,03 nm

Entièrement motorisée : 4 moteurs pas-à-pas pour l'alignement automatisé du levier et de la photodiode

Libre accès à la sonde pour des manipulateurs et des sondes externes supplémentaires

Accès optique simultané par le dessus et par le côté : objectifs planapochromatiques 10x, NA = 0,28 et 20x, NA = 0,42 respectivement.

Tête AFM HE002*

Longueur d'onde du laser : 1 300 nm

Aucune influence du laser d'enregistrement sur les échantillons biologiques

Aucune influence du laser d'enregistrement sur les mesures photovoltaïques

Bruit du système d'enregistrement : < 0,1 nm

Entièrement motorisée : 4 moteurs pas-à-pas pour l'alignement automatisé du levier et de la photodiode

Libre accès à la sonde pour des manipulateurs et des sondes externes supplémentaires

Accès optique simultané par le dessus et par le côté : avec objectifs planapochromatiques, objectif latéral jusqu'à 100x, NA = 0,7 et objectif supérieur 10x, NA = 0,28 simultanément

* La tête HE002 n'est pas compatible avec les modes AFM contact et contact intermittent en milieu liquide.

Microscope optique

Ouverture numérique : jusqu'à 0,1

Grossissement sur moniteur 19” avec CCD 1/3” : de 85x à 1 050x

Champ de vision horizontal : de 4,5 à 0,37 mm

Zoom manuel : 12,5x (zoom motorisé en option)

Support et unité de mise au point grossière/fine

Possibilité d'utiliser des objectifs planapochromatiques 10x, NA = 0,28, 20x, NA = 0,42 et 100x, NA = 0,7 (selon la tête AFM)

Cellule liquide (en option)

Taille d'échantillon : épaisseur 2 mm, diamètre 25 mm

Plage de positionnement des échantillons : 5 x 5 mm

Résolution de positionnement : 1 um

Taille de la cellule : 40 x 40 x 12 mm

Volume de liquide : 3 mL

Capacité d'échange de liquide

Nettoyage en autoclave et par ultrasons des composants de la cellule

Cellule liquide avec contrôle de la température (en option)

Taille d'échantillon : épaisseur 2 mm, diamètre 25 mm

Chauffage : jusqu'à 60 °C

Refroidissement : jusqu'à 5 °C

Plage de positionnement des échantillons : 5 x 5 mm

Résolution de positionnement : supérieure à 1,5 um

Taille de la cellule : 40 x 40 x 12 mm

Volume de liquide : 3 mL

Capacité d'échange de liquide

Nettoyage en autoclave et par ultrasons des composants de la cellule

Unité AFM conductrice (en option)

Plage de courant : 100 fA ÷ 10 µA

3 plages de courant (1 nA, 100 na et 10 µA) commutables à partir du programme

Plage de tension : -10 ÷ +7 V

Bruit de courant RMS : < 60 fA pour la plage de 1 nA.

Basculement du mode conducteur au mode Kelvin depuis le programme.

Support de diapason à force de cisaillement et à force normale combinées (en option)

Compatible avec les diapasons ayant une fréquence de résonance libre de 32,768 kHz

Deux types de circuits imprimés pour la fixation des diapasons pour un fonctionnement en modes force de cisaillement et force normale

Excitation piézocéramique des vibrations du diapason

Préamplificateur intégré pour la réduction du bruit

Compatible avec un objectif latéral 100x pour les mesures de TERS\TEPL

Compatible avec un objectif supérieur 10x

Unité de nanoindentation (en option)

Charge maximale : 5 mN

Bruit de fond de charge : < 100 nN

Bruit de fond de déplacement : < 0,2 nm

Compatibilité avec les systèmes optiques

Pas d'interférence du laser infrarouge avec l'imagerie optique

Possibilité d'évolution vers l'OmegaScope pour les applications spectroscopiques, photovoltaïques, SNOM et TERS/TEPL

Boîtier de protection avec support pour microscope optique (en option)

Isolation acoustique : 30 dB

Protection électrostatique

Raccords d'entrée et de sortie pour la connexion au système de contrôle de l'environnement

Mise au point avec vis micrométrique ± 6,5 mm

Lecture du micromètre : 10 µm

Sensibilité de la mise au point : supérieure à 1 µm

Surélévation rapide de l'optique : jusqu'à 98 mm

Positionnement XY : ± 2 mm

Mise au point fine en option pour objectif 100x

Mise au point fine 0,2 mm

Lecture du micromètre 0,5 µm

Sensibilité de la mise au point supérieure à 0,1 µm

Système de contrôle de l'humidité (en option)

Plage d'humidité relative : 10-85 %

Stabilité de l'humidité relative : ± 1 %

Logiciels

Alignement automatique du système d'enregistrement

Configuration et péréglage automatiques pour les techniques de mesure standard

Réglage automatique de la fréquence de résonance du levier

Possibilité d'utiliser des courbes de force

Langage de macro Lua pour la programmation de fonctions utilisateur, de scripts et de widgets

Possibilité de programmer le contrôleur avec le langage de macro DSP en temps réel sans recharger le logiciel de contrôle

Possibilité de traiter des images dans un espace de coordonnées avec réalisation de coupes transversales, ajustement et soustraction de surface polynomiale (jusqu'à 12 degrés)

Traitement FFT avec possibilité de traiter les images dans l'espace de fréquence, y compris pour filtrage et analyse

Nanolithographie et nanomanipulation

Traitement d'images jusqu'à 5 000 x 5 000 pixels