RP-1

レティクル/マスク/ウェハ異物除去装置

 

ブローと真空吸引で異物を自動除去
レティクル／マスクに付着した異物をAir（又はN2）ブローと真空吸引により自動除去します。露光前のルーチン運用で、毎回異物を除去する事により、ペリクルの貼り替えやマスクの洗浄周期を延ばし、ランニングコスト低減に寄与します。

ガラス面上異物除去時（20μmホウ珪酸ビーズ除去率データ）

 

 

事業セグメント: Semiconductor
製品分類: Metrology
製造会社: HORIBA, Ltd.

 

こんな時にお役に立ちます。

  • オペレータのルーチン業務を低減し、併せて人的なペリクル破損を防止します。
  • ヒューマンハンドリングを無くし、静電破壊を防止します。
  • レティクルストッカーに保存する前後に異物の除去をすることでマスク寿命を伸ばします。
  • 異物検査装置PR-PDシリーズとの組み合わせで、異物除去後のレティクル/マスクの状態を確認できます。

 

 

 

対応ケースNikon/Canon/SMIF POD/HORIBA
スループットガラス/ペリクル面を同時にブロー、約1分で異物を除去
外形寸法1190 (D) x 1150 (W) x 1520 (H) mm

 

 

Size: 2.81 MB
RP-1カタログ

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