シリコンウェハ中の不純物（酸素）の定量分析

シリコンウェハ中の酸素濃度は電気抵抗値に影響を与えるため、極めて微量な酸素の濃度管理が必要です。FT-IRを用いた分析法が規格されていますが、ウェハ製造技術の進歩により、より低濃度な酸素濃度(10 ppm以下）の分析が求められています。また不純物の酸素が低濃度化することは、シリコンウェハ表面に付着している極めて微量な酸素が、測定全体に大きな影響を与えることにもなっています。本アプリケーションでは、このシリコンウェハ表面の酸素とシリコンウェハ中の酸素を区別して分析した事例を紹介します。