【お悩み例】
・必要な濃度の混合ガスをすぐに供給したい…
・簡単に複数成分のガス濃度をつくれないか？
・混合ガスのボンベの数が増えており、保管場所が不足している
弊社ガス混合装置は内部搭載されているマスフローコントローラーを用いて、
任意のガス量に制御します。
また、多様な組成の混合ガスを精度よく発生させることができるため、
試験プロセスの効率化を実現します。
ガス混合装置は必要な時に必要な量の混合ガスを
発生・供給することができます。また、保有するガスボンベの種類を
削減できるため、コスト及び保管スペース削減に貢献します。
流量比混合法は、多成分のガスを各々正確に流量制御を行い、均一混合し、混合ガスとして発生します。
ガス濃度はガス流量に比例し、流量を制御する事により、目的とする濃度の混合ガスを発生します。
下図に、二成分混合ガス発生（成分ガスの希釈）の例をご紹介します。
また、精度良く混合ガスを発生させるには、ガス種ごとの流量値の信頼性が重要です。
詳細については堀場エステックの流量標準技術の取り組みをご確認ください。
発生するガス成分に応じたマスフローコントローラを搭載し、簡単操作で混合ガスを発生できます。操作部にはタッチパネルを採用し、発生ガス濃度・流量の設定が行えます。
2成分から最大6成分のガス混合までラインアップを用意しています。制御用ソフトは、プログラム運転機能や、ガス濃度での設定機能等を有しており、各種研究開発用とに最適なガス発生システムとしてご提供いたします。
