レティクル/マスク異物検査装置PD10-EXは、1984年に誕生したPDシリーズの最新機種です。
40年の歴史に磨かれたレーザー散乱方式検査技術と長期安定性＆信頼性を継承しながら大きく進化しています。
半導体製造プロセスに欠かせないフォトマスク生産工程でのブランクマスク検査、完成品レティクル/マスクの出荷前検査、半導体工場での受け入れ検査、露光工程でのルーチン検査など多くの半導体製造シーンで活躍しています。先端EUVプロセスでのペリクル検査、マスク欠陥検査装置を補完するパターン面検査、高速ガラス/ペリクル面検査など多様な機能を持つ半導体検査装置です。
