プラズマエミッションコントローラ
タッチパネル用フィルムやガラス基板は反応性スパッタリングにより基材上に成膜が行われます。反応性スパッタ法は真空中でスパッタ粒子に酸素や窒素と化学反応させながら成膜する手法ですが反応ガスの定量供給法では成膜速度が遅く実用化が困難とされていました。しかし反応性モードと成膜速度の早い金属モードの間に不安定なのですが成膜速度が大きく変化する遷移モードが有りプラズマ発光強度から反応ガスを制御することで遷移領域を保持出来ることが知られています。
プラズマエミッションコントローラ RU-1000はプラズマ発光強度をセンサーで捉え独自のアルゴリズムにより自社製高速応答マスフローコントローラに適切な反応性ガス流量の指示を行い金属モードに近い成膜速度の向上と共に安定な成膜を実現します。
プラズマエミッションコントローラの製作にあたり プラズマ発光強度を計測する光学基本設計は（株）堀場製作所が担当し反応性ガス流量を高速で制御する機能部の設計は（株）堀場エステックが担当いたしました。堀場製作所は自動車排気ガス分析計や薄膜計測および理化学分析分野のトップ企業でありこれら分析技術の基本原理は光計測技術に有ることからプラズマ発光計測はこの道のトップ企業が担当したことになります。一方反応性ガス流量の制御部については世界の半導体製造装置に最も多く採用されているマスフローコントローラ（ガス流量制御装置）のメーカが担当いたしました。プラズマエミッションコントローラ RU-1000は堀場グループ技術の粋を結集することによりさらに技術の高みへの進化に挑戦してまいります。
弊社ではお客様のシステムにマッチし安心してご採用いただく目的に、コントローラとプラズマ計測部等のシステムを貸出いたします。
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