Model | GR-312F |
|---|---|
Valve type | Normal close |
Leak integrity | 5×10-12Pa･m3/sec |
Maximum primary pressure | 250kPa(A) |
Pressure resistance | 300kPa(A) |
Operating temperature | 5°C～50°C |
Power supply | +15V±5% 150mA |
Digital interface | RS485 F-Net |
Gas | He、Ar |
Standard fittings | 1/4inch VCR or equivalent |
Pressure full scale | 13.33kPa(A) (100Torr) |
Pressure control range | 1～100% |
Pressure accuracy | ±0.5% F.S. |
Pressure rate output signal | 0～10VDC |
Flow full scale | 20、50、100SCCM |
Flow accuracy *2 | ±1.0%R.S.(Flow rate>25%F.S.) |
Flow rate output signal | 0～5VDC |
Mounting orientation | Free |
웨이퍼이면압력제어시스템 GR-300 시리즈
웨이퍼의 대구경화, 가공의 미세화가 진행되는 것에 따라, 각 프로세스에 있어서의 웨이퍼위의 가공 균일성은 매우 중요한 요소가 되어 있습니다.특히 플라스마를 이용한 프로세스에 대해서는, 균일성을 높이기 위해서 웨이퍼 이면의 온도 제어를 실시할 필요가 있습니다.
GR-300 Series는, 그 온도 제어에 불가결한 헬륨 가스나 아르곤 가스등의 전열성 가스의 압력 제어를 행하기 위한 기기로서 주목 받고 있습니다. GR-300 Series는, 폐사 Mass Flow Controller에 채용되고 있는 고속·고분해 Piezo Valve 와 Mass Flow Sensor를 탑재하고 있어, 정확·안정적으로 미세한 차압 제어를 실시할 뿐만 아니라, 유량계측기능도 가지고 있습니다.또 그 용도로서 트랜스퍼 chamber내의 진공/대기 복귀의 압력 제어나, 원자층 증착(ALD：Atomic Layer Deposition) 프로세스 등에 필요한 재료 가스의 압력 제어용 등 다방면에 걸쳐 제안 합니다.
