GD-Profiler 2™
The GD-Profiler 2™ provides fast, simultaneous analysis of all elements of interest including the gases nitrogen, oxygen, hydrogen and chlorine. It is an ideal tool for thin and thick films characterization and process studies.
GDOES는 나노미터 깊이 분해능으로 모든 원소와 두께를 정량 측정하는 동시에 층상 재료의 초고속 원소 깊이 프로파일 분석을 제공하는 분석 기법입니다. HORIBA Scientific의 펄스 RF GDOWS 기기와 DiP(Differential Interferometry Profiling)는 재료 연구 및 공정 정교화를 위한 이상적인 동반 특성화 도구입니다.
혁신적인 펄스 RF 소스를 통해 첫 번째 나노미터에서 150µm 이상까지 모든 유형의 고체 샘플을 최적 성능으로 프로파일링할 수 있습니다. 고분자 재료는 특허받은 UFS(Ultra Fast Sputtering)로 쉽게 스퍼터링됩니다. 또한 이 소스를 사용하여 SEM(Scanning Electron Microscopy)을 위한 샘플 surfaces 준비도 가능합니다.
수소, 중수소, 리튬, 탄소, 질소, 산소 등을 포함한 모든 원소를 측정할 수 있습니다.
특허받은 DiP(Differential Interferometry Profiling)는 GD 분석과 동시에 수행되는 나노미터 정밀도로 시간의 함수로서 깊이를 직접 측정할 수 있습니다.
모든 HORIBA Scientific GD 분석기에 사용되는 특허받은 HDD(High Dynamic Range Detectors)는 실시간으로 감도를 자동 최적화하여, 한 레이어의 추적 수준에서 요소를 분석하며, 별도 조정 없이 두 번째 레이어에서 주요 요소 분석이 가능합니다.
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