HORIBA에는 유체 측정 및 제어 요구 사항에 맞는 다양한 제품이 있습니다.
다양한 제조 공정과 연구소에서 우리는 정확한 측정과 가스와 액체의 신뢰할 수 있는 제어를 제공합니다. HORIBA는 고성능 질량 유량계, 질량 유량 제어기, 자동 압력 제어기 및 최첨단 반도체 제조 산업에서 사용되는 액체 기화 시스템의 선두 R기업입니다.
질량 유량 컨트롤러는 사용 조건이나 가스 압력의 변화에 영향을 받지 않고 전기 신호로 전송된 설정 유량에 따라 가스의 유량을 자동으로 제어합니다. 유량은 크게 체적 유량과 질량 유량의 두 가지 유형으로 분류할 수 있습니다. 체적 유량 측정은 주변 온도와 압력의 영향을 받습니다. 실제 유량을 확인하려면 압력과 온도 조건이 압력 조건이어야 하므로 훨씬 더 정확하고 안정적인 유량 측정 및 제어가 가능합니다. 엔드레스하우저의 질량 유량 컨트롤러는 다양한 산업 분야에서 유량의 정확한 제어가 필요하거나 자동화 생산 라인을 구축할 때 필수적인 장비로 사용되고 있습니다.
구조 및 작동 원리
이 질량 유량 컨트롤러에는 센서, 바이패스, 유량 제어 밸브 및 특수 회로가 포함된 유량 측정 섹션이 있습니다.
가스는 입구 조인트에서 입력되며, 유량 센서와 바이패스를 모두 통과하도록 분할됩니다. 센서는 가스의 질량 유량을 측정하고 유량 제어 밸브는 측정된 유량과 외부 유량 설정 신호에서 수신된 유량의 차이가 0(제로)이 되도록 유량을 수정합니다.
이 장치는 루프 회로를 갖추고 있어 도입 가스의 공급 압력에 영향을 줄 수 있는 2차 압력 변화나 주변 온도 변화가 발생하더라도 유량이 즉시 보정되어 안정적인 유량 제어가 가능합니다.
1. 입구에서 들어온 가스는 먼저 분리되어 센서를 지나거나 바이패스를 통해 흐릅니다.
2. 센서에서 질량 유량은 온도에 비례하는 변화로 감지되고 브리지 회로에 의해 전기 신호로 변환됩니다.
3. 이 신호는 증폭 및 보정 회로를 통과하여 0 ~ 5V 사이의 선형 전압으로 출력됩니다. 동시에 비교 제어 회로로도 전송됩니다.
4. 비교 제어 회로는 유량 설정 신호와 센서의 실제 유량 설정 신호를 비교하여 밸브 구동 회로에 차이 신호를 보냅니다.
5. 유량 제어 밸브는 유량 설정값과 유량 출력 신호의 차이가 0에 가까워지도록 밸브를 적절히 움직입니다. 즉, 장치가 유량을 제어하여 항상 설정 유량이 되도록 합니다.
디지털 질량 유량 컨트롤러는 위 다이어그램에 나와 있습니다.
이 질량 유량 컨트롤러에는 센서, 바이패스, 유량 제어 밸브 및 특수 회로를 포함하는 유량 측정 섹션이 있습니다. CPU가 회로의 일부로 포함되어 있어 다기능이면서 매우 효율적입니다.
이 장치에는 루프 회로가 있어 도입 가스의 공급 압력에 영향을 줄 수 있는 2차 압력 변화나 주변 온도 변화가 발생하더라도 유량이 즉각적으로 보정되어 안정적인 유량 제어가 가능합니다.
냉각 측정 방법
액체용 미세 질량 유량 컨트롤러 LF-F/LV-F 시리즈의 유량 센서는 모세관 튜브와 접촉하는 전자 냉각 소자(펠티에 소자)와 여러 온도 감지 소자로 구성됩니다. 액체가 흐르면 센서가 유량에 따른 온도 상승(⊗T)을 감지하여 이를 유량으로 표시합니다. 열을 가하는 방식과 달리 냉각 방식으로 끓는점이 낮은 액체의 유량 측정이 가능합니다. 또한 2차 방전(기화)의 영향으로 인한 간섭 문제를 방지하고 정확한 유량 측정이 가능합니다.
LV-F 시리즈 질량 유량 컨트롤러는 LF-F 시리즈 질량 유량계와 유사하지만 피에조 액추에이터 밸브와 내부 비교 제어 회로가 있습니다. 유량 설정 신호와 유량 출력 신호를 비교하여 두 신호가 일치하도록 밸브 개구부를 자동으로 제어합니다. 피드백 제어 시스템을 사용하기 때문에 외부 요인에 의한 유량 변동이 없어 안정적이고 정확한 제어가 가능합니다. 안정적이고 열을 발생시키지 않는 피에조 액추에이터 밸브를 제어 밸브로 사용하기 때문에 끓는점이 낮은 액체의 유량 제어에 이상적입니다.
The following list covers the major steps involved in vaporizing a liquid source and supplying it to the process chamber.
Vaporization systems that use the injection method sequentially carry out steps 1, 2, and 3 listed above. The VC series units measure the liquid flow of the liquid source using a mass flow meter and do not use a carrier gas. The MI/MV series units use a mass flow meter for measurement and feature a mass flow controller that introduces a carrier gas into the unit to vaporize the liquid source.
This is the vaporization method used in the MI/MV series. Since the pressure on the carrier gas is higher at the front of the nozzle inside the injector, it can be heated efficiently. The liquid source and the heated carrier gas are mixed together in the gas/liquid mixing area in the front of the nozzle, and the pressure is reduced as they pass through the nozzle, vaporizing the mixture. Vaporization efficiency is higher than with traditional vaporization methods. When this method is used, larger flows can be generated, and the generation temperature can be reduced.
High Speed & Precision Pressure Insensitive Mass Flow Module
Wide Range Pressure Insensitive Mass Flow Module
Pressure Insensitive Mass Flow Module
New concept Pressure Insensitive Mass Flow Module
Digital Mass Flow Controller
General Purpose Mass Flow Controller
High Temperature Digital Mass Flow Controller
Mass Flow Controller
Thermal Flow Splitter
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