- NH3 監測儀 -

空氣中的分子污染物 (AMC) 會導致現代半導體生產中的產品品質問題，即使濃度極低也是如此。隨著 20 世紀 90 年代化學增強抗蝕劑的引入，AMC 首次成為一個問題。一旦光阻內的光解引發的酸被無塵室中空氣中的氨 (NH3) 中和，就會出現缺陷。這種相互作用與裝置缺陷相關，因為它會惡化線寬和線結構。因此，潔淨室中氨氣分子污染的測量變得普遍，並且離子色譜法已經被使用了很長時間。

潔淨室中的氨污染可能來自不同的、有時是意想不到的來源：外部空氣吸入、人員蒸發或設備洩漏。有時會出現一些隨機事件，導致氨濃度增加，導致光罩版和反射鏡的光學表面出現霧氣。然而，在影響產量之前快速識別並消除氨污染源是有問題的，因為它可能來自任何地方。

AMC 的手動分析無法提供高空間分辨率，並且可能會延遲污染物的檢測，從而導致污染物在無塵室中擴散並導致產量下降。

為了最大限度地減少氨空氣分子污染造成的產量損失，獲得高空間分辨率的分析數據對於快速確定污染源並立即採取對策非常重要。

潔淨室設施品質部經理的心聲

• 需要提高分析的空間分辨率，但增加人工採樣和分析成本昂貴且時間間隔大
• 不同晶圓廠對分析系統設計的要求各不相同

在手動執行 AMC 分析的無塵室中，僅在圖 1 的點 [5] 採樣可能會導致污染檢測延遲以及 AMC 在整個無塵室中的傳播。 HORIBA 多點測量系統由線路選擇器和具有多個採樣點的AMC 監控系統組成[1] [2] [3] [4] [5]（圖1）可以提高分析的空間分辨率，從而實現早期檢測AMC來源和快速對策。這種多點AMC監控系統可能有助於提高產量、裝置品質和可靠性。

         多點AMC監控