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Pulsed RF Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy
Elemental depth profiling made easy
GD-Profiler 2™
GD-Profiler 2™ 可快速、同步分析所有感興趣的元素，包括氮氣、氧氣、氫氣和氯氣。它是薄膜和厚膜表徵和製程研究的理想工具。
GDOES 是一種分析技術，可提供層狀材料的超快速元素深度剖面分析，同時以奈米深度分辨率提供所有元素和厚度的定量測量。 HORIBA Scientific 的脈衝 RF GDOES 儀器具有差分乾涉分析 (DiP) 功能，是材料研究和製程闡述的理想配對表徵工具。
創新的脈衝射頻源可以以最佳性能對所有類型的固體樣品進行分析，從第一個奈米到超過 150μm。使用專利的超快濺鍍 (UFS) 可輕鬆濺鍍聚合物材料。此外，此來源還可用於準備掃描電子顯微鏡 (SEM) 的樣品表面。
所有元素都可以測量，包括氫、氘、鋰、碳、氮、氧等。
專利的差分乾涉分析 (DiP) 允許以奈米級精度直接測量隨時間變化的深度，這與 GD 分析同時進行。
所有HORIBA Scientific GD 儀器中使用的專利高動態範圍檢測器(HDD) 允許即時、自動優化靈敏度，分析一層中的痕量元素，並在第二層中作為主要元素，無需妥協或需要做出任何調整任何調整。
脈衝 GD OES 和 XPS 的結合，特別是用於查看嵌入式接口，引起了 Surface 社群的興趣。請參閱發表在 Coatings 上的這篇開放存取文章。
Read the articleDiscover the new brochure for the GD-Profiler 2™
我們的脈衝射頻輝光放電發射光譜儀，具有差分乾涉分析 (DiP) 資訊以及最新的功能和應用。
取得手冊本文介紹了在基於 H3PO4、四水合硝酸鈣、六水合硝酸鎂和三水合硝酸銅 (II) 的電解質中在三種電壓下製備的新型多孔塗層的特性。使用SEM、能量色散光譜（EDS）、輝光放電發射光譜（GDOES）、X射線光電子能譜（XPS）和XRD技術進行塗層鑑定。
Read the article我們開發了一種在輝光放電發射光譜儀 (GDOES) 儀器上實施的原位測量技術，該技術可在分析過程中提供深度資訊。該裝置基於差分乾涉儀，我們表明，對於 100 奈米到幾十微米的凹坑深度，可以獲得優於 5% 的測量精度。這項進展可直接應用於不透明塗層，並為 GDOES 的量化過程帶來顯著改進。
閱讀文章混合鈣鈦礦太陽能電池的效率約為 20%，是下一代光伏發電的新的有前途的候選人。由於廣泛的 HORIBA Scientific 產品組合，可以使用不同的技術來深入了解此類材料的光電特性和機制。在這個應用說明中，我們決定使用光譜橢圓光度術、穩態和時間分辨螢光以及輝光放電發射光譜來研究沉積在旋塗 PEDOT:PSS 上的 CH3NH3PbI3 薄膜的特性。暴露在空氣中的影響得到了解決。
Read more脈衝射頻輝光放電發射光譜儀為薄膜和厚膜的研究提供超快的元素深度分析能力。由於使用脈衝射頻源，再加上高解析度光學光譜儀，GD Profiler 2 提供了出色的深度分辨率，可快速評估塗層品質。在本應用說明中，我們將重點放在用作固體潤滑劑的 MoS2/Pb 複合多層樣品。對這樣一個樣品的分析顯示了該儀器對於奈米厚複雜塗層研究的優異性能。
Read more如您有任何疑問，请在此留下詳細需求或問題，我們將竭誠您服務。
